李林飞，后者道：“纯化达到多少？”

朱峰肯定的回道：“采用的是您提供的技术，纯化达到99%小数点后面9个9。”

点点李林飞交代道：“准备定型吧，越快越好，完成定型之后立马对锡材料进行批量生产。”

朱峰点了下头，但猛地一惊骤然忙道：“什么？马上就要批量生产？可是，还有最后一项实验没有得到验证，外延生长的锡烯薄膜虽然及其稳定，但我们还没有确定其超导电性具体可以保持多久，当然李总我并没怀疑您给出的理论数据，只是觉得谨慎一些比较好。”

显然，朱峰还是很担忧的，尽管他说的比较委婉，毕竟一旦量产将会是数十亿上百亿的投入，将来要是测试出产品不达标，损失不可估量，用在PHC上可能会面临大规模召回和品牌声誉的影响。

正准备离去的李林飞回头看向他：“我不可能给你几年的时间来测试它的可靠性，科研的确需要谨慎，但有时候先做了再说。”

朱峰欲言又止，李林飞补充道：“PHC现在只有1400万片的存货量了，这还只是海外市场业务被终止，只为内地供货的前提下，在断货之前必须要补上，失去了海外市场今后可以回归，但同时内地市场也断货，上千家工厂就会倒闭，成千上万的人将会面临失业。按我的说的做，出了事我担责，我是总负责人。”

“好，我明白了。”李林飞这么说了，朱峰无奈，只好执行了。

事实证明，即使开了挂的人也终究还是一个人，并不是神。

李林飞的脑子里有诸多划时代的知识，但要把脑子里的知识变成现实中的产品，得要一支靠谱的团队协助才能实现，而且有些超前的科技拿出来反而会惹来大麻烦，就说那海水淡化技术就惹来了这么多的事端。

()超级神豪科技系统

第一千零九十八章成功了

随着时间流逝，李林飞领导整个半导体团队紧锣密鼓的搞技术大开发，一项项成果随着时间的推移而累积，新产品面试即将开始。

一个星期后，上午11点左右，三五辆车组成一列车队抵达第一研究所的这个研发室，研发中心的负责人在车队抵达的时候便出来迎接了。

因为来的人正是李林飞。

“李先生，锡片材料到了？”那负责人一脸迫不及待的说道。

闻言，李林飞侧头看向跟随在身边的一个男子，示意手里正提着的一个精密的密封箱，对方看到李林飞投来的目光旋即把手里的密封箱递过去，研发中心的这名负责人顿时两眼放光，立马催促随行的助手接过来，不忘嘱咐道：“小小点，这可是宝贝！”

“黄组长，你们这边准备的怎么样了？”李林飞问道。

“早就准备好了，已经等了三天了，就等着锡片呢。”黄组长直言说道。

“那还等什么？快开始吧。”

“李先生，请！”

第一研究所外围研究室，一间大型实验室封闭的防盗钢化玻璃门，李林飞等人接近三五米左右的时候，哧的一声，玻璃门骤然自行打开。

此时李林飞及其该研发中心的负责人和中微半导体的一名重要负责人一并来到了这间实验室内，各种仪器设备立马暴露在众人的视野中，尤其是在实验室的中央位置，一个四米多高、矩阵体结构的设备尤为瞩目。

实验室有几名颇为年轻的工程师，而此时穿着无尘服的李林飞也不对研发部的负责人请示什么，直接亲自上阵，对着那几名工程师说道：“别愣着，开始吧。”

他们立马开始工作。

只见得李林飞娴熟的打开了这台完全由国产配件自主研发的光刻机，内部顿时出现了一个锥体漏斗状的仪器设备，这个仪器勾架在顶部。

两指宽左右的电缆线密布着，外层紫铜线层层环绕着，裸露的机体的内部，成千上万个零件密密麻麻对齐链接在一起，形成了一个精密的微型化封闭结构，以较小的角度近距离俯瞰非常壮观。

李林飞指挥着五个协助他的工程师进行最后的调试作业，一名工作人员把他带来的密封箱取来从中取出锡烯二维晶圆，这是制作好的锡圆片。

芯片的制造工艺流程是非常复杂的，首先是提供高纯度的锡烯二维晶体薄膜，在吸收了在原材料工艺制作的核心技术后，然后把锡烯材料的纯度也提高到了全世界最顶尖的层面。

值得一提的是，制作芯片除了需要光刻机之外，还需要蚀刻机，如果说光刻机是芯片制造的魂，那么蚀刻机就是芯片制造的魄，想要制造出真正的高端工艺芯片，这两样都必须是顶尖的。

而在此之前，国产光刻机和蚀刻机的发展非常尴尬，属于严重偏科的情况，中微半导体已经可以进行5纳米级别的蚀刻机量产，直接无悬念的迈入世界一流行列，量子蚀刻机也在试验阶段了，这可是没有叶华帮助的结果。

但是光刻机企业不管是微电子的90纳米级光刻机，还是影速的200纳米级光刻机，与当前世界ASML最先进的5纳米级制程都是难以望其项背的差距。

这俩机器设备，简单的说就是光刻机把电路图投影到覆盖有光刻胶的硅片上，当然现在是锡片，而蚀刻机再把画了电路图的芯片上的多余电路图腐蚀掉。

这样看起来似乎没有什么难度，但是有一个形象的比喻，每一块芯片上面的电路机构放大无数倍来看，比整个都复杂数倍，这就是光刻机和蚀刻机的难度。

光刻的过程就是现在制作好的锡圆表面涂上一层光刻胶，所谓光刻胶就是一种可以被光腐蚀的胶状物质，接下来通过极紫外光透过掩膜映射到锡圆表面，类似于投影。

因为光刻胶的覆盖，照射到的部分会被腐蚀掉，没有光照的部分则被留下来，这部分就是所需要的电路结构了。

光刻机的光刻作用就类似于照相机照相，工作原理便是将芯片路线与功能的电路图通过具有图形的光罩对涂有光刻机芯片晶元进行曝光，光刻胶见光之后会发生性质变化，从而使得光罩上得到电路复印到芯片晶元上。

形象的说就像平面印刷工艺，一旦确定架构方案，只要原材料充足，刷刷刷的放量生产就完事了。而蚀刻方式有两种，一种是干刻，一种是湿刻，这次中微半导体提供的就是第二种蚀刻方案。

顾名思义，湿刻就是过程中有水的加入，将上面经过